作为MOCVD技术和化合物半导体材料器件研发交流的平台，自1989年第一届会议举办以来，“全国MOCVD学术会议”已经成功举办了十五届，会议规模和影响力越来越大，成为全国学术界和产业界广泛参与的学术盛会。

三十二年的传承与积淀，两年一次的相聚与畅谈，是重逢，更是见证！

本届会议是在国家科学技术部指导下，安徽省教育厅、安徽省科学技术厅、江苏省科学技术厅支持下，由中国有色金属学会、南京大学、厦门大学、中国科学技术大学、国家半导体照明工程研发及产业联盟（CSA）、第三代半导体产业技术创新战略联盟(CASA)联合主办，江苏省光电信息功能材料重点实验室、江苏省2011"固态照明与节能电子学"协同创新中心、教育部光电材料与芯片技术工程中心、半导体照明联合创新国家重点实验室、北京麦肯桥新材料生产力促进中心有限公司共同承办，安徽大学、黄山学院信息工程学院、西安电子科技大学芜湖研究院全力协办。

本届会议以“先进光电技术·智能绿色制造”为主题，选择在安徽屯溪举行，在四天的相聚畅谈中，将与来自祖国大陆和港澳台地区的与会专家学者、工程技术人员和企业家将在MOCVD生长机理与外延技术、MOCVD设备（整机/部件/配件/原材料）、材料结构与物性、光电子器件、电力电子器件、微波射频器件、LED智能照明与物联网、半导体激光器、光伏/光探测器、可见光通信技术等领域开展广泛交流，了解发展动态，促进相互合作。这次会议必将对我国MOCVD学术研究、技术进步及第三代半导体产业发展起到有力的推动作用。

从组委会获悉，虽然会议召开进入倒计时阶段，来自全国各地的参会代表

报名工作仍在进行中。本届会议得到了全国各大高校、研究院所及产业链各环节企业的大力支持和积极响应。其中，中微公司、亚格盛、中科潞安、AIXTRON、Crosslight、德智新材、南京集芯光电、博蓝特、西安电子科技大学芜湖研究院、Mbraun、华邦化学、Horiba 堀场、先普、翱晶半导体、纳维科技、MalvernPanalytical、志橙半导体、隆兴达科技、迈塔光电、尚勤光电、普发真空、德仪、德国WITec、奥趋光电、中晟光电、元旭光电、正通远恒、晶湛半导体、颐光科技、桂林雷光、米格实验室等来自国内外的半导体关键设备、衬底材料、外延芯片、测量、检测、石墨、Mo源以及高纯气体等材料国内外知名厂商将参加此次会议。助力MOCVD关键设备及技术产学研用合作，加速先进光电技术与智能绿色制造国产化进程。

截止目前，会议已收到投稿论文200余篇，涉及外延生长机理和生长动力学、半导体材料结构与物性、光电子材料与器件、电子材料与器件、超宽禁带半导体材料与器件、低维半导体等新型材料与器件、装备与基础原材料、衬底、MO源、高纯气体等基础材料八大方向。全面的论文角度和内容，大大地丰富了本次会议的广度和深度，也让会议备受期待。

【日程概览】

【会场分布】

【日程安排】

特别提醒：本届大会口头报告时长为：15分钟；分会邀请报告时长为：20分钟；大会报告时长为：35-40 分钟。目前开闭幕大会日程正在最后确认中，最新分会日程现公布如下。

备注：如有报告人需要微调时间安排，请联系刘老师：025-89685356，邮箱：mocvd16@nju.edu.cn！