厂商：韩国NTS.CO.,LTD
型号：NanoSurface-460L
技术指标：
1.可加工横向尺寸4英寸及以下的wafer;
2.一次加工3片2英寸大小的wafer;
3.研磨盘转速：0-350rpm，通常设置为：63-75rpm;
4.减薄速率：0.2-2um/分钟
工艺特点：
1.为了维持研磨盘的平整度，配备了研磨盘表面冷却装置
2.采用无噪音驱动系统，吸收和缓冲研磨抛光时产生的震动，提高产品精度和平面度。
